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在較早前舉行的 Storage Field Day 18 中,Western Digital 宣佈正開發一種名為「Low-Latency Flash」的全新低延遲驅動器,「Low-Latency Flash」的定位介乎在 DRAM 及3D NAND 之間,比普通 3D NAND 擁有更快的速度,而價錢則比 DRAM 更便宜,與 Intel Optane 及 Samsung Z-NAND 儲存器相類似。在 2015 年,2D 技術瓶頸越發凸顯,Flash 原廠紛紛向 3D 技術轉移,旨在降低每 GB 的成本,經過 32 層和 48 層 3D NAND 的發展,當前主流的 64 層 3D NAND 已較 2D NAND 成本低,使得 NAND Flash 價格從 2017 下半年開始下滑,下一代 96 層 3D NAND 成本將更低。
Western Digital 儲存產品解決方案副總裁 Luca Fasoli 表示:“全新的 Low Latency Flash ( LLF ) 技術主打低延遲、高性能和長壽命,實際上可以創造出非常快速的定制設備,延遲處於微秒 (μs) 級範圍內。”
在過幾多 NAND FLASH 的技術不斷急速發展,將更多的Cells整及在同一包裝內以實現更大的儲存容量,同時並擁有低功耗及更高的性能,Toshiba 繼去年 9 月宣佈96 層 BiCS FLASH 樣品已出貨後,最新再公人佈與其戰略合作夥伴Western Digital幾乎完成了最新的迭代:128層3D NAND,並稱之為「BiCS-5」,預計最快可於2020 - 2021年實現商業化生產。在一年前,NAND FLASH產品已經來到48層及64層堆疊技術,到 2019 年更會有 96 層堆疊的產品開始量產,至於下一代的 128 層堆疊亦準備要來,Toshiba與Western Digital合作正在積極開發「BiCS-5」NAND Flash,相比 96 層的「BiCS-4」,新技術額外多出的32層,能夠輕鬆將容量提升 1/3,並可大幅降低製造同等容量終端產品的成本。
據了解,全新的「BiCS-5」NAND Flash邏輯電路層在晶片的底部,而數據層則堆疊在上方,採用了陣列下電路(CuA)設計與非CuA技術相比可把晶片尺寸縮小15%。消息指全新的128層堆疊 3D NAND 採用了TLC設計,儲存密度接近96層堆疊的3D QLC,與96 層的BiCS-4 相比,BiCS-5 可讓模具總體縮小23%,密度亦相較96層堆疊3D TLC提升了29.8%。
Samsung 最新宣佈已經開始大規模生產首款商用 eMRAM ( 嵌入式磁隨機存取儲存器 ),該產品基於 28nm FD-SOI 工藝技術,可廣泛應用於 MCU 微控制器、IoT 物聯網、AI 人工智能領域,並計劃在今年擴大高密度新興的非易失儲存器 (eNVM) 解決方案,包括 1Gb EMRAM 晶片。MRAM 一種非易失性的磁性隨機儲存器,除了 MRAM,還有 eFlash、EEPROM、eMRAM、eRRAM、ePRAM 等次世代存儲器,能夠用於通用微控制器(MCU)、物聯網、工業、消費類電子、汽車等,提升數據保存的能力。
Samsung 指出,eFlash (嵌入式閃存) 要進步已經非常困難,由 SLC、MLC、TLC、QLC 到 OLC 技術 ,雖然密度越來越高,但是相對來說壽命亦越來越短,主控和算法不得不進行越來越複雜的補償。