国产刻蚀机入选全球首条5纳米芯片产线 相关公司受关注

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中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机最近经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。台积电计划明年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

刻蚀机是芯片制造的关键装备之一，曾是一些发达国家的出口管制产品，但随着我国技术突破，这种高端装备在出口管制名单上消失了。中微半导体是国内半导体行业首屈一指的、具有完全自主知识产权的民族品牌，此次其自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，突破了“卡脖子”技术，让“上海制造”跻身刻蚀机国际第一梯队。业内认为，中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。已通过验证的国产5纳米刻蚀机，预计会获得比7纳米生产线更大的市场份额。

http://www.sohu.com/a/282568422_ ... 545091200023WRl5Apr

聽聞光刻機開始搞緊45nm

skywalker167

因為覺得不好 所以DEL了

024109

其實應該系米90nm開始需要用193nm ArF laser，但好似而家7nm錦用舊DUV都勉強做到，即系舊248nm都ok
可能chi ...
skywalker167 發表於 2018-12-21 12:02

    聽講係搞緊，未有做得出黎的機。應該係研發階段掛。詳細我都唔係好知，係聽聞過下會搞45nm

isvh5

大陸90nm光刻機有好幾年，不過都係買外國零件磡出泥，前幾個月有大陸媒體報道，剛剛完成90nm光刻機既完全國產化，包括工作台，激光光源同埋光學鏡組。45nm肯定係攪緊，不過唔知道係何年何月先可以攪點姐。
https://mil.sina.cn/sd/2018-07-2 ... 332.d.html?from=wap

https://m.wallstreetcn.com/articles/3302736

http://m.chinaaet.com/article/3000072977

chinwah

又sell "飼煮燃發"

skywalker167

因為覺得不好 所以DEL了

lotus123

ASML 光刻機由於diffraction 的影響，光的波長越短越有利，對物鏡的質素要求高，7nm 得 Zeiss做到，但產量低，成本好高。 Cannon 同 Nikon 做唔到 Zeiss 的質素，日本光刻機就跟唔上。

大陸製的物鏡比日本差，山寨唔到ASML光刻機，滯留在90nm好多年。但大陸繞道，用等離子原理，對波長同物鏡的要求較低，所以中微半導體能夠量產 5nm 的刻蝕機。 前排中科院成都所的 10nm 光刻機都係用等離子原理。

因此 ASML 先至會賣7nm/5nm DUV 光刻機比 SK Hynix ， 前幾日已經裝咗入無錫的工廠。而中芯部7nm/5nm EUV 光刻機出年應該會出貨。
http://www.sohu.com/a/283145533_ ... 545264000023WRl5Apr

fireeye

佢呢隻同洋貨極紫外光刻有物分別？

lotus123

同傳統製作相片差唔多
光刻機=冲菲林
刻蝕機=冲相